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【应用材料推出新设备 有望降低EUV光刻成本】 近日，应用材料公司推出了一款新的电子束测量设备，专门用于精确测量采用EUV和新兴的High-NA EUV光刻技术的半导体器件的关键尺寸，可有效降低光刻工艺的成本。该设备被称为VeritySEM®10关键尺寸扫描电子显微镜（CD-SEM）测量系统。

关键词： 应用材料 光刻工艺